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化学气相沉积

CVD工艺用于广泛的应用领域。这些范围从图案化薄膜到晶体管结构中的绝缘材料,以及形成电路的导电金属层之间。应用包括浅沟隔离,预金属电介质,金属间电介质,以及钝化。它们在使用压缩或拉伸应力薄膜通过提高导电性来提高晶体管性能的应变工程中也很重要。