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生产者®塞莱拉湾PECVD

应用制片人西莱拉PECVD法该系统可在45nm及以下的应变工程应用中沉积可调压缩和拉伸高应力氮化硅薄膜。

该系统提供整体应力氮化物沉积和紫外线固化,提供高达1.7gpa的拉伸应力,同时满足低热量预算要求。同一个腔体可以沉积具有高达3.5gpa的压应力的薄膜。该工艺采用经生产验证的硅烷CVD技术,在保持优异的蚀刻停止性能和图案加载结果的同时,提供了卓越的步骤覆盖率(约70%)。

应用的西莱拉沉积和紫外线固化工艺已在生产中得到证实。高通量生产商平台,其灵活的双腔®配置和平台可扩展性使客户能够为多个流程节点利用生产商工具集。