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生产者®达拉克®PECVD法

应用生产者达拉克 PECVD法是行业领先的抗反射涂层,可最大限度地降低反射率,减少光致抗蚀剂中毒,以及提高光致抗蚀剂对≤90nm技术的粘附力。

与应用材料“APF”(高级图案膜)可剥离CVD硬掩betwayapp膜结合使用,APF/DARC膜堆交付岩性启用溶液提高蚀刻选择性,光盘控制,线条边缘粗糙度。应用生产商DARC PECVD提供了广泛的折射率和消光系数值调谐范围,可在多个应用中实现不匹配的反射率控制。这些薄膜可与其他CVD原位集成。电介质以提高效率和降低拥有成本。

广泛应用于传统大门,多晶硅和铝互连 光刻技术应用,DARC 193是双镶嵌具有良好的低k介电薄膜粘附性的互连方案。